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該設備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝；設備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）等，按需設計，多...

MSC-200T-D桌上型半自動旋轉(zhuǎn)涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、...

設備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應用于12寸以內(nèi)...

MSD-150D主要應用于曝光后的顯影工藝。該設備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機采用框架結(jié)構(gòu)，外表為鏡...

應用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。應用：在...

桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領域。主要應用于4、6寸樣品。該款可為客戶提...

MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、曝光單元、顯影單元等部分組成，該設備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小，性價價比更高。整機采用框架結(jié)構(gòu)...